也正在焦急等待海外华国
个规模不大却令人不敢小觑
科技公司最新消息。
不过他们和国内企业家愿望不同，他们在内心里不断发出恶狠狠诅咒，尤其欧美国家诅咒最美，但愿蓝河科技实验结果惨遭滑铁卢！
最好直滑铁卢，永远不会成功！
很可惜他们注定会失望。
蓝河科技内，随着盛明安手势指挥，矗立众人跟前那台光刻机样机在漫长小时内完成
它第次验收。
样机看不见内部，无数比头发丝还细激光穿过几十个精密镜头后，准确击中锡液滴靶，四处分散等离子体被收集，将掩膜版上图形信息透过缩图透镜完完整整复刻到下面晶圆，曝光晶圆。
个小时后，各小组汇报结果。
“完成光刻试验任务，没有异常。”
“小时内成功曝光160片晶圆，比目前已知asmleuvnex3400b机型每小时曝光125片晶圆吞吐量多达35片！套刻误差不超过2nm！”
“数据已全部记录，根据数据计算显示，可以在原样机基础上将效率提高至少18%，套刻误差提高到2nm以下。”
“片晶圆可得芯片数量等于晶圆面积/芯片面积晶圆直径/芯片对角线长，照该公式计算
们目前使用12英寸晶圆片可得到芯片数量，不过最后可用芯片数目得等到封测完毕才能知道最终晶圆良率。”
经过光刻机曝光后大块晶圆还需要封装成个完整颗粒，再进行切割，最后测试。通过测试选出性能稳定、完好、容量足芯片，剩下不合格部分就会被当成废品处理。
稳定芯片和不合格芯片对比得出数据称为晶圆良率，总良率超过90%才算可盈利商品。
而晶圆制作过程历经三百多个步骤，其中随便哪个步骤出现差错就能导致整片晶圆损毁或拉低良率。
粒肉眼看不见灰尘掉进正在制作中晶圆，它就会立即报废，所以光刻过程必须保证在恒温、无尘车间内工作。
“其余数据稳定！稳定！稳定！”
“13.5nmeuv样机，实验验收完毕！”
“验收通过！”
……
片无声沉默中，盛明安率先开口：“可以向上报告，准备新机研制和新项目研发。”
下刻，实验室内猛然爆发欢呼，还有人喜极而泣，他们埋头苦干四五年！
有人在这行甚至干十年以上，还以为有生之年都不能看到国产euv诞生，怎
能想得到不仅看到、还是自己参与项目！
所以怎能不喜极而泣？怎能不相拥欢呼？
林成建眼睛有点湿，他忽然很想钻回自己小房间，拿出妻子照片将喜悦分享给她
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